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光刻機工作原理詳解（光刻機工作原理你知道嗎）

2022-09-16 06:54:23 滾動新聞來源：

導讀今天小編來給大家分享一些關于光刻機工作原理你知道嗎方面的知識吧，希望大家會喜歡哦 1、測量臺、曝光臺：是承載硅片的工作臺。2、激光

今天小編來給大家分享一些關于光刻機工作原理你知道嗎方面的知識吧，希望大家會喜歡哦

1、測量臺、曝光臺：是承載硅片的工作臺。

2、激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。

3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

4、能量控制器：控制最終照射到硅片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質(zhì)量。

5、光束形狀設置：設置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀，不同的光束狀態(tài)有不同的光學特性。

6、遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到硅片。

7、能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，并反饋給能量控制器進行調(diào)整。

8、掩模版：一塊在內(nèi)部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數(shù)十萬美元。

9、掩膜臺：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。

10、物鏡：物鏡用來補償光學誤差，并將線路圖等比例縮小。

11、硅片：用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸，尺寸越大，產(chǎn)率越高。題外話，由于硅片是圓的，所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系，根據(jù)缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、 notch。

12、內(nèi)部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。

本文到此結(jié)束，希望對大家有所幫助。

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