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目前大家應該是對光刻機是誰發(fā)明的比較感興趣的，所以今天好房網小編CC就來為大家整理了一些關于光刻機是誰發(fā)明的方面的相關知識來分享給
目前大家應該是對光刻機是誰發(fā)明的比較感興趣的，所以今天好房網小編CC就來為大家整理了一些關于光刻機是誰發(fā)明的方面的相關知識來分享給大家，希望大家會喜歡哦。
法國人Nicephore niepce。盡管光刻機發(fā)明的時間較早，但并沒有在各行業(yè)領域之中被使用，直到第2次世界大戰(zhàn)時，該技術應用于印刷電路板，所使用的材料和早期發(fā)明時使用的材料也已經有了極大區(qū)別，在塑料板上通過銅線路制作，讓電路板得以普及，短期之內就成為了眾多電子設備領域中關鍵材料之一。
光刻機：光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動。
A手動：指的是對準的調節(jié)方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；
B半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；
C自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。
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